PC 3004 VARIO select EKP VARIO® 变频化学真空系统

PC 3004 VARIO select EKP VARIO® 变频化学真空系统

PC 3004 VARIO select EKP真空系统能精确控制真空度，以实现WYLB的工艺过程控制。该泵抽速大，JX真空度高，适用于要求较高的高沸点溶剂应用。集成式的VACUU·SELECT真空控制器搭配了简单易用、基于应用程序的用户界面，内嵌了所有常见的实验室真空应用。VACUU·SELECT真空控制器可满足您所有要求。对于简易实验过程可手动修改控制参数，也可进行全自动蒸馏，或者通过简单的“拖放”操作编辑创建自己的应用程序。在溶剂蒸发过程中，VACUU·SELECT真空控制器能够持续探测溶剂沸点，并按需自动调节真空过程。
该变频控制方法在保持电机运行不超过所需速度的情况下，同时能保持所需的真空度。这能防止碰撞和起泡，使泵运行安静，延长维护间隔时间。进气口分离瓶由玻璃制成，外覆一层保护膜，能防止颗粒和液滴进入泵内，防止泵损坏，延长泵的使用寿命。搭配Peltronic出气口废气冷凝器的PC 3004 VARIO select EKP无需连接冷凝水或者使用干冰即可实现溶剂高回收率。 主要应用于蒸发工艺。蒸发过程可以完全自动运行，过程时间更短，而且对很难区分的混合物有非常好的灵敏性。VARIO^®控制可防止过热或者起泡，确保了过程的可靠性。它随时根据不断变化的过程参数来自动调节真空度，不断自我调节。这样操作完全不需要输入参数或者使用溶剂数据库。而且在许多其他应用及在实验室真空网路中， VARIO^®变频控制可一直处在Z佳抽速，因此有更多好处。VACUU·BUS^®系统使连接非常容易，即使针对复杂的真空配置。

PC 3004 VARIO select EKP VARIO® 变频化学真空系统特点

配置图形用户界面及预定义应用的VACUU·SELECT真空控制器能简化实验室工作

自动沸点探测及真空度调节能够缩短反应时间

性能强劲的真空泵能满足使用大多数高沸点溶剂的高真空要求

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优异的环境友好性，J低的能源损耗和高效的溶剂回收率

JX真空：1.5mbar

开启气镇的JX真空：3mbar

ZD抽速50Hz：4.6m³/h

订货号20737574

PC 3004 VARIO select EKP VARIO® 变频化学真空系统参数

PC 3004 VARIO select EKP VARIO® 变频化学真空系统技术

ZD抽速50Hz

50Hz下的抽气曲线（10升容积）